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第1202页

陆飞滔滔不绝,如数家珍。

领导们一言不发,目不转睛地盯着运行中的光刻机,虽然不是第一次见到光刻机,但一想到这是第一台国产的duv浸润式光刻机,都压不住激动的心情,尽可能地往前靠,想凑得更一些,看得更清楚一些。

“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”

沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65n干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!

这么快让你们搞出来了!”

“哪里,哪里,领导。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“说说吧,到底是怎么搞出来的?”

沙领导眼里满是赞赏之色。

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

陆飞笑道:“duv浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

顿了顿,“可以说,这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的euv光刻机,只有一代的代差了。”

“生产7n的良品率是多少?”

郑韩脸上挂着得意的笑容。

毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”

“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”

陆飞比比画画道:“完全可以比肩asl,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7n制程工艺。”

沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7n制程工艺的芯片对吗?”

陆飞点了下头,“没错,7n是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5n。”

“5n是不是就需要euv光刻机了?”

郑韩好奇道。

“有euv光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7n、5n,但没有euv光刻机也无妨,有这台duv浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔?”

顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5n工艺。”

陆飞直截了当地回答。

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